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第二十六章 光刻之父(第1页)

林本舰,现年60岁,目前全球半导体技术,处于193纳米波长的光,而全世界半导体研发团队,都在专注于如何跳过193纳米,达到157纳米的研发。

而林本舰却凭借着浸入式微影技术,彻底改变了集成电路的生产,而这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中,用水代替空气以提高分辨率,用193纳米的波长的光通过水作为介质,将其缩短至134纳米,由此打破了全球半导体的技术壁垒。

如此,他在后世被称之为光刻之父。

对于纳米技术,可能很多人不太理解,其实萧天也一样,但是他相对来说还针对性的查阅过资料,所以还算有模糊的轮廓。

纳米(nm)是一个长度单位,1纳米等于0。000000001米,1纳米等于4个原子大小,而原子是化学反应中最小的微粒,肉眼无法看到。

举例,如果把一根头发平均分成5万份,那么每一份的厚度就是1纳米。

由于纳米的特殊性,也演变出了纳米技术,而芯片技术,就是其中最典型的纳米技术范畴。

芯片又称集成电路,是丑国仙童公司RobertNoyce与德州仪器基尔比发明的,最开始的芯片是把晶体管、电阻、电阻等集成在一个很小的平板上,然后用很细的线把这些元器件连接起来,实现了最简单的芯片功能。

随着芯片技术的日益发展,现在的芯片已经可以集成数亿的晶体管,实现超级计算功能,而其制造工艺的先进,就以纳米单位制程描述。

在晶体管结构中,电流从Source(源极)流入Drain(漏级),Gate(栅极)相当于闸门,主要负责控制两端源极和漏级的通断。

至于纳米工艺制程,具体所指之处,就是栅极的最小宽度。

所以简单来说,一块芯片的功能强大与否,取决于它所承载的晶体管的数量,晶体管的数量越多,运算能力越强,功能也就越多。

而想要增加晶体管的数量,就需要把栅极的宽度变小,如此相对应的晶体管也会变小,芯片就可以承载更多的晶体管。

。。。

萧天走进书房后,看着悠闲坐在沙发椅上的林本舰,脑海中不禁下意识的闪过关于纳米技术的浅显理解,由此也不由自主的滋生出对于眼前老者的尊敬。

抛开其它,能够为全人类攻克科技技术的人物,是值得让人尊敬的。

在后世,人手一部智能手机的时代,若说没有眼前林本舰的浸入式微影技术,手机芯片如何承载上百亿的晶体管?

它又何以称之为智能手机?

所以,这里,才是源头!

当然,现在是2002年,而林本舰还没有发表关于浸入式微影技术的论文,同样也没有成为丑国国家工程学院院士,并且这个时候的光刻机全球市场,还是日岛国的尼康和佳能在称霸,其次就是阿斯麦,至于其余几家光刻机生产商,基本都没有自己的核心技术,属于陪跑的行列。

而在后世称霸光刻机市场的阿斯麦,现在处境非常难受,被尼康跟佳能联手制裁,导致市场份额一缩再缩,再加上顶头上司飞利浦已不再注入资金,因此又一次面临着解体困境。

然而改变这一切格局的关键点,就是眼前这位光刻之父林本舰。

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