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“多重曝光技术?”
站在高永明右侧的工程师露出抹不解,他叫唐鑫宇,是龙芯国际光刻团队的副首席。
他好像听说过,但记不起来在哪听过了。
“没错。”
林天点了点头,语气坚定道:“DUV光刻机是可以制造14纳米芯片的,它的极限远不止于此,理想状态是能到7纳米。”
高永明:“!!!”
唐鑫宇:“!!!”
曲程:“!!!”
DUV光刻机极限居然是7纳米?
你在开什么玩笑?
陈星也被惊到了,如果真能使用一台20纳米制程的DUV光刻机造出7纳米芯片,那西方会不会对此大跌眼镜?
别看明面上,米国还没下场封锁技术,但背地里,其实早就限购光刻机了。
它的做法很简单,可以卖你龙国光刻机,但不能卖给你最先进的光刻机。
例如两年前,28纳米还属于先进水平的时候,28纳米制程的DUV光刻机就不能卖给龙国,谁敢卖,就是和米国作对。
荷兰敢吗?
显然是不敢的,它们也没有这个本事。
荷兰ASML公司说白了,它就是个光刻机组装工厂,没有米国的光源技术,它啥也不是。
而到了今天,西方攻克了14纳米芯片后,已经把目光看向了7纳米芯片,自然而然的,20纳米DUV光刻机就被放开了。
米国目的很明显,允许你用,但不允许你超越。
越是害怕,越会提防,因为龙国才脱离战争不到三十年,就发展到了世界第二大经济体,再给发展三十年会怎么样?
沉睡的雄狮,东方的巨龙,它们哪敢不防?
陈星虽然是商人,但同时也是位龙国商人,如果能在自家搞出14纳米芯片,那他还是愿意多支付一些流片费用的。
毕竟曲程也说了,之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程,资金和土地都进入了最终的批准环节。
“说说使用这个多重曝光技术,流片要多少钱?”
陈星表明自己态度。
林天得到确切的答复后,述说自己的想法道:
“光刻多重曝光技术,说通俗直白一点就是,原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产,现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制,将它拆分多块,每一块都有相对应的电路图案。”
“比如我们要做14纳米芯片,可以把设计的芯片电路图案拆开,就得到了两份28纳米间隔的电路图案,分两次把它们刻在硅片上,就会形成完整的14纳米芯片电路图案,就类似于我们龙国的太极图,一阴一阳互补的意思。”
“因为是两块芯片掩膜版,所以要给双倍的流片费用。”
陈星大致听明白了,这个多重曝光技术就相于要印刷一个AB字母的组合图案。
第一步先把AB拆开,得到A与B两個图案,然后将它们分别制作光掩膜版,紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A,再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B,最终得到所需要的AB组合图案。
八个字概括就是,精度不够,工序来凑。
“要花两倍的流片费用,高总,14纳米的……”
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